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品牌導(dǎo)讀：Allresist GmbH公司成立于1992年，經(jīng)過(guò)28年發(fā)展，ALLRESIST開發(fā)，生產(chǎn)和銷售用于光學(xué)和電子束光刻的抗蝕劑以及用于制造電子組件的相關(guān)工藝化學(xué)品，專業(yè)從事光刻工業(yè)所需電子化學(xué)品的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，總部位于德國(guó)。開發(fā)，生產(chǎn)和用于光學(xué)和電子束光刻以及與這些抗蝕劑的電子元器件的制造相關(guān)聯(lián)的相應(yīng)處理的化學(xué)品分配抗蝕劑。德國(guó)ALLRESIST主要產(chǎn)品包括：Allresist光刻膠、Allresist電子束光刻膠等，公司通過(guò)了ISO9001產(chǎn)品質(zhì)量管理認(rèn)證和ISO14001環(huán)境管理體系認(rèn)證。華聯(lián)歐小編今天為大家?guī)?lái)的內(nèi)容是ALLRESIST,德國(guó)ALLRESIST光刻膠,ALLRESIST電子束光刻膠，希望大家喜歡，接下來(lái)我們一起去看看吧!
一、ALLRESIST公司簡(jiǎn)介
ALLRESIST GmbH回到六十年代的根源。在“Fotochemische Werke柏林”(ORWO),研究項(xiàng)目啟動(dòng)了復(fù)印涂料的發(fā)展。已經(jīng)在1965年,第一個(gè)工作光致抗蝕劑的基礎(chǔ)上肉桂酸用于生產(chǎn)的晶體管。年代,開發(fā)工作力度和研究部門擴(kuò)大到100名員工。大規(guī)模生產(chǎn)的新生產(chǎn)設(shè)施成立于1987年,生產(chǎn)和改進(jìn)版本的抗拒這個(gè)設(shè)施仍ALLRESIST今天提供的。在1992年試圖抵制生產(chǎn)私有化后失敗了,部門被關(guān)閉。他們?cè)诠饪棠z開發(fā)方面的經(jīng)驗(yàn)基于悠久的傳統(tǒng)。作為柏林世界攝影博物館的衍生產(chǎn)品，他們可以借鑒30多年的研究成果。Allresist成立于1992年10月16日。您可以在這里找到他們過(guò)去二十年的研究項(xiàng)目。
歡迎使用ALLRESIST-攝影和電子束抗蝕劑專家。ALLRESIST開發(fā)，生產(chǎn)和銷售用于光學(xué)和電子束光刻的抗蝕劑以及用于制造電子組件的相關(guān)工藝化學(xué)品。可抵抗所有大小的光刻和電子束光刻的所有標(biāo)準(zhǔn)工藝。交貨時(shí)間短，小巧的1/4升容器，低價(jià)的測(cè)試樣品以及專業(yè)的建議是他們服務(wù)的一部分。10位高素質(zhì)，敬業(yè)的員工結(jié)合了能力和創(chuàng)新精神，致力于公司的理念：只有滿意的客戶和員工才能獲得市場(chǎng)成功。您可以在此處找到有關(guān)他們的環(huán)境和質(zhì)量政策的更多信息。唯一可能的方式保存非常抵制技術(shù)是成立一個(gè)新的大,小,高生產(chǎn)力的公司——ALLRESIST GmbH。
二、ALLRESIST產(chǎn)品介紹
1、ALLRESIST AR-P 5300剝離技術(shù)光刻膠系統(tǒng)
①AR-P 5300系列的正型光刻膠用于通過(guò)剝離技術(shù)生產(chǎn)底切結(jié)構(gòu)(剝離)，以生產(chǎn)氣相沉積圖案，尤其是金屬。底切輪廓是在通常的光刻工藝中獲得的，而無(wú)需額外的技術(shù)，時(shí)間和能源消耗。
②該抗蝕劑的特征在于對(duì)光的高靈敏度，優(yōu)異的分辨能力以及對(duì)金屬和氧化物表面的良好粘附性。它們包含在加熱板上和對(duì)流烤箱中正?；鼗鹌陂g會(huì)硬化抗蝕劑表面的成分。
③抗蝕劑結(jié)構(gòu)的底切在堿性水溶液顯影期間形成。雖然AR-P 5350在1-2μm的標(biāo)準(zhǔn)層厚度范圍內(nèi)使用，但新開發(fā)的抗蝕劑AR-P 5320也可用于創(chuàng)建5-10μm的剝離結(jié)構(gòu)。
④抗蝕劑由安全溶劑-溶劑混合物中的酚醛清漆-萘醌二疊氮化物-與主要成分1-甲氧基-2-丙基-乙酸酯組成。
2、ALLRESIST光阻AR-BR 5400
①首先，涂覆PMMA共聚物AR-BR 5400。
②然后將光致抗蝕劑AR-P 3510施加到退火的共聚物層上。
③可以以堿水溶液的方式顯影兩層浮渣系統(tǒng)。將抗蝕劑溶解在更安全的溶劑-溶劑混合物中。
④AR-BR 5400抗蝕劑是基于甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸的共聚物，主要成分為1-甲氧基-2-丙醇。
⑤AR-P 3510是一種線型酚醛清漆-萘醌二疊氮化物的組合，主要存在于乙酸1-甲氧基-2-丙酯中。
3、ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-PC 5090和AR-PC 5091(Electra 92)
①保護(hù)涂層AR-PC 5090和AR-PC 5091(Electra 92)是導(dǎo)電保護(hù)涂層。
②它們的功能是創(chuàng)建薄的導(dǎo)電層。
③AR-PC 5090設(shè)計(jì)用于PMMA-E-Beam，CSAR 62和HSQ抗蝕劑，而AR-PC 5091可與基于Novolak的E-Beam抗蝕劑一起使用。兩者都主要用于導(dǎo)出電子輻射產(chǎn)生的電荷。
④抗蝕劑通過(guò)旋涂施加。取決于旋轉(zhuǎn)速度，所得層厚度為30-80 nm，噴砂后用去離子水去除該層。這些解決方案的保質(zhì)期超過(guò)一年。
⑤抗蝕劑由聚苯胺，表面活性劑和水/醇的混合物組成。
三、ALLRESIST主要產(chǎn)品和型號(hào)
1、ALLRESIST主要產(chǎn)品
①德國(guó)ALLRESIST光刻膠
②德國(guó)ALLRESIST電子束光刻膠
③德國(guó)ALLRESIST光致抗蝕劑
④德國(guó)ALLRESIST電子束抵制
⑤德國(guó)ALLRESIST紫外光刻膠
2、ALLRESIST產(chǎn)品型號(hào)
①德國(guó)ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-PC 5090-5091（Electra 92）
②德國(guó)ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑50K，200K，600K，950K
③德國(guó)ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-P 6200（CSAR 62）
④德國(guó)ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-P 6500
⑤德國(guó)ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-P 7400
⑥德國(guó)ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-N 7500、7520
⑦德國(guó)ALLRESIST產(chǎn)品電子束抗蝕劑AR-N 7700、7720
⑧ALLRESIST光刻膠ARP 672.11
⑨德國(guó)ALLRESIST光刻膠AR-P 1200，AR-N 2200
⑩德國(guó)ALLRESIST光刻膠AR-P 3100
?德國(guó)ALLRESIST光刻膠AR-P 3200
?德國(guó)ALLRESIST光刻膠AR-P 3500（T）
?德國(guó)ALLRESIST光刻膠AR-P 3700、3800 VLSIC
四、德國(guó)ALLRESIST光刻膠產(chǎn)品特點(diǎn)
1.光刻膠類型齊全，可以滿足用戶的各種工藝要求。
產(chǎn)品類型包括:紫外光刻膠(正片或負(fù)片)、剝離工藝膠、LIGA膠、圖案反轉(zhuǎn)膠、化學(xué)放大膠、抗蝕保護(hù)膠、聚酰亞胺膠、全息曝光膠、電子束光刻膠(包括聚甲基丙烯酸甲酯膠、電子束負(fù)片膠、三維曝光膠(灰色曝光膠)、混合曝光膠等。)
2.光刻膠封裝規(guī)格靈活多樣，適合各種規(guī)模的生產(chǎn)和科研需求。
包裝規(guī)格包括:250ml、1l、2.5l等常規(guī)包裝，以及30ml、100ml等測(cè)試用小包裝。
3.交貨時(shí)間短。
我們?cè)诿總€(gè)月的20號(hào)左右向德國(guó)制造商下訂單。產(chǎn)品將在第二個(gè)月中旬到達(dá)。你可以根據(jù)實(shí)際情況合理安排采購(gòu)時(shí)間。請(qǐng)聯(lián)系我們的銷售人員了解訂單詳情。
4.它可以提供高水平的技術(shù)咨詢服務(wù)，并有能力為特殊和復(fù)雜的工藝開發(fā)和定制光刻產(chǎn)品。
5.儲(chǔ)存條件:
儲(chǔ)存在一個(gè)封閉的容器中，并放在一個(gè)黑暗、干燥、涼爽、通風(fēng)良好的地方。儲(chǔ)存在合適的溫度下。
?完畢，以上就是今日小編為大家分享的關(guān)于ALLRESIST,德國(guó)ALLRESIST光刻膠,ALLRESIST電子束光刻膠的全部產(chǎn)品內(nèi)容了，本文資料及圖片來(lái)源于網(wǎng)絡(luò)，如有侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)系刪除！如您還有其它問(wèn)題要咨詢，可以通過(guò)QQ、E-mail、電話、傳真、留言等聯(lián)系我們!
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